מצעים מרוכבים מסוג N Si על סיליקון קוטר 6 אינץ'
等级צִיוּן | אתה 级 | P级 | D级 |
ציון BPD נמוך | כיתה ייצור | דירוג דמה | |
直径קוֹטֶר | 150.0 מ"מ ± 0.25 מ"מ | ||
厚度עוֹבִי | 500 מיקרומטר ± 25 מיקרומטר | ||
晶片方向כיוון פרוסות | מחוץ לציר: 4.0° לכיוון < 11-20 > ±0.5° עבור 4H-N על הציר: < 0001 > ±0.5° עבור 4H-SI | ||
主定位边方向דירה ראשית | {10-10}±5.0° | ||
主定位边长度אורך שטוח ראשוני | 47.5 מ"מ ± 2.5 מ"מ | ||
边缘אי הכללת קצה | 3 מ"מ | ||
总厚度变化/弯曲度/翘曲度 TTV/Bow /Warp | ≤15 מיקרומטר / ≤40 מיקרומטר / ≤60 מיקרומטר | ||
微管密度和基面位错MPD ו-BPD | MPD≤1 ס"מ-2 | MPD≤5 ס"מ-2 | MPD≤15 ס"מ-2 |
BPD≤1000cm-2 | |||
电阻率הִתנַגְדוּת סְגוּלִית | ≥1E5 Ω·cm | ||
表面粗糙度חִספּוּס | פולני Ra≤1 ננומטר | ||
CMP Ra≤0.5 ננומטר | |||
裂纹(强光灯观测) # | אַף לֹא אֶחָד | אורך מצטבר ≤10 מ"מ, אורך יחיד ≤2 מ"מ | |
סדקים כתוצאה מאור בעוצמה גבוהה | |||
六方空洞(强光灯观测)* | שטח מצטבר ≤1% | שטח מצטבר ≤5% | |
צלחות משושה על ידי אור בעוצמה גבוהה | |||
多型(强光灯观测)* | אַף לֹא אֶחָד | שטח מצטבר ≤5% | |
אזורי פוליטיפ על ידי אור בעוצמה גבוהה | |||
划痕(强光灯观测)*& | 3 שריטות בקוטר של 1× פרוסת ופלים | 5 שריטות בקוטר של 1× פרוסה | |
שריטות עקב אור בעוצמה גבוהה | אורך מצטבר | אורך מצטבר | |
崩边# שבב קצה | אַף לֹא אֶחָד | 5 מותר, ≤1 מ"מ כל אחד | |
表面污染物(强光灯观测) | אַף לֹא אֶחָד | ||
זיהום על ידי אור בעוצמה גבוהה |
תרשים מפורט
